反射式膜厚检测系统
纳米级精度 / 非接触式 / 单层及多层薄膜
基于宽谱光源反射光谱分析的薄膜厚度检测系统。通过采集薄膜表面的反射光谱，利用干涉条纹拟合算法精确计算膜厚和光学常数。非接触、无损检测，适用于透明/半透明单层及多层薄膜的离线精密测量。
- 膜厚测量范围 10nm ~ 100μm
- 重复性优于 2nm
- 前面板 3 路 SMA905 光纤接口，照明与取光独立走纤
- 支持单层/多层薄膜（多层需提前沟通）
- 可选光斑 0.1mm ~ 5mm（选配显微环境支持）
- 可选自动对焦、Mapping 扫描及成像
- 可接入显微光路做微区测试（选配）
- 支持在线式监测（需定制）
典型规格参数
| 测量原理 | 光谱反射率干涉法（薄膜干涉条纹拟合） |
|---|---|
| 测量方式 | 非接触、无损，反射式；近法线入射（0°~8°） |
| 光谱范围 | 420nm~1000nm，可扩展至 150nm~2500nm（扩展波段必须先做技术交流） |
| 光源 | 卤钨灯（VIS-NIR）；含 UV 波段时选配氘卤组合光源；可选消 656.1nm 特征峰 |
| 光纤接口 | 前面板 3 路 SMA905（照明输入 / 反射取光 / 参考或扩展通道） |
| 膜厚范围 | 10nm ~ 100μm（取决于膜层材料和波段） |
| 重复性 | <2nm |
| 测量速度 | <1s / 点 |
| 可选光斑 | 0.1mm ~ 5mm（选配显微环境支持） |
| 膜层类型 | 单层 / 多层（多层需提前沟通） |
| 色散模型 | Cauchy / Sellmeier / Tauc-Lorentz，内置常用材料 n(λ)、k(λ) 数据库 |
| 基线校准 | 标准反射片（Si 片 / Al 镜）取参考谱，建议每班次校准一次 |
| 适用基底 | 硅片、玻璃、石英、蓝宝石、金属、聚合物等；要求测点平整 |
| 显微环境测试 | 支持（选配，需先做技术交流） |
| 在线式监测 | 可以，需定制 |
| 软件功能 | 光谱测试、膜厚计算；可选自动对焦、Mapping 扫描及成像 |
| 数据输出 | 原始光谱与拟合结果导出 CSV / Excel，支持测量报告与图表保存 |
| 供电与通讯 | AC 220V 50Hz；USB 数据接口 |
| 工作环境 | 10~35℃，相对湿度 <80% 无凝露，避免强振动与杂散光 |
