反射式膜厚检测系统
纳米级精度 / 非接触式 / 单层及多层薄膜
基于宽谱光源反射光谱分析的薄膜厚度检测系统。通过采集薄膜表面的反射光谱，利用干涉条纹拟合算法精确计算膜厚和光学常数。非接触、无损检测，适用于透明/半透明单层及多层薄膜的离线精密测量。
- 膜厚测量范围 10nm ~ 100μm
- 重复性精度优于 0.5nm
- 支持单层/多层薄膜同时拟合
- 可输出膜厚、折射率 n(λ)、消光系数 k(λ)
- 内置多种薄膜材料光学常数数据库
- 测量点定位采用 CCD 可视化对准
典型规格参数
| 测量原理 | 光谱反射率干涉法（薄膜干涉拟合） |
|---|---|
| 光谱范围 | 380~1050nm（标配）/ 可扩展至 200~2500nm |
| 膜厚范围 | 10nm ~ 100μm（取决于膜层材料和波段） |
| 重复性 | <0.5nm（SiO₂ on Si） |
| 测量速度 | <1s / 点 |
| 测量光斑 | 50μm ~ 3mm（可选物镜调节） |
| 膜层模型 | 单层 / 多层（最多 8 层同时拟合） |
| 输出参数 | 膜厚 d、折射率 n(λ)、消光系数 k(λ) |
| 软件功能 | 光谱采集、膜厚拟合、Mapping 扫描、数据库管理 |